Qual relata um maior rendimento e uniformidade em um qubit de silício em um wafer inteiro. Anteriormente, isso só tinha sido possível apenas em um dispositivo.
Spin de silício de segunda geração da Intel fabricados com litografia ultravioleta extrema (EUV). Essa tecnologia propicia uma taxa de rendimento de 95% em todo o wafer.
Opera em temperaturas próximas ao zero Kelvin (ou 271o C). Os pesquisadores isolaram 12 pontos quânticos e quatro sensores, considerado pela companhia como o maior dispositivo de rotação de elétrons de silício da indústria, com um único elétron em cada local em uma pastilha de 300 milímetros.
Pontos quânticos simples e duplos, o que representa um passo importante para produzir em larga escala os milhões de qubits necessários para um computador quântico comercial.
Dispositivos e desenvolver sistemas de maior escala, com essas etapas servindo como blocos de construção para nos ajudar a avançar rapidamente”, disse James Clarke, diretor de hardware quântico da Intel.
FONTE: DG TECH , AJUDE O NOSSO SITE COMPARTILHANDO NOSSOS CONTEÚDOS .....